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東レは21日、シンガポール科学技術研究庁の半導体研究機関、インスティチュート・オブ・マイクロエレクトロニクス(IME)とSiC(炭化ケイ素)パワー半導体向け高放熱接着材料の実用化研究を始めたと発表した。耐熱性に優れる次世代のSiCパワー半導体から効率的に放熱する材料の貼り付けプロセスを開発…